俄罗斯开发出可替代光刻机的芯片制造工具：还要生产7nm芯片

10月10日消息，这对于ASML来说是不是有点魔幻，俄罗斯号称开发出可以替代光刻机的芯片制造工具。

据俄罗斯国际新闻通讯社报道，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“国产光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将使“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”成为可能。

据介绍，其中一种工具的成本为 500 万卢布(当前约36.3万元人民币)，另一种工具的成本未知。

据开发人员称，传统光刻技术需要使用专门的掩膜板来获取图像。该装置由专业软件控制，可实现完全自动化，随后的另外一台设备可直接用于形成纳米结构，但也可以制作硅膜，例如用于舰载超压传感器。

在这之前，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所就宣布开始朝这个方向展开工作，所以有上述成功产生并不意外。

要知道，俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构发豪语，宣称俄罗斯科学院旗下应用物理研究所将会跌破所有人眼镜，在2028年开发出可以生产7纳米芯片的光刻机，还可击败ASML同类产品。