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[导读]电子设计自动化(EDA)自20世纪60年代萌芽以来,经历了从手工绘图到计算机辅助设计(CAD),再到高度集成化、智能化工具的演进。早期的EDA主要用于简化电路布局与布线,而随着芯片复杂度指数级增长,现代EDA已成为支撑集成电路设计不可或缺的核心技术。如今,在摩尔定律逼近物理极限、设计周期不断压缩的背景下,传统EDA工具面临效率与精度的双重挑战。人工智能(AI)的崛起为EDA注入了全新动能——通过机器学习优化布局布线、预测时序问题、加速验证流程,AI正推动EDA迈向“智能设计”的新纪元。可以说,AI不仅是EDA发展的必然延伸,更是其未来突破的关键引擎。

电子设计自动化(EDA)自20世纪60年代萌芽以来,经历了从手工绘图到计算机辅助设计(CAD),再到高度集成化、智能化工具的演进。早期的EDA主要用于简化电路布局与布线,而随着芯片复杂度指数级增长,现代EDA已成为支撑集成电路设计不可或缺的核心技术。如今,在摩尔定律逼近物理极限、设计周期不断压缩的背景下,传统EDA工具面临效率与精度的双重挑战。人工智能(AI)的崛起为EDA注入了全新动能——通过机器学习优化布局布线、预测时序问题、加速验证流程,AI正推动EDA迈向“智能设计”的新纪元。可以说,AI不仅是EDA发展的必然延伸,更是其未来突破的关键引擎。

在这一轮AI驱动的EDA变革浪潮中,国内EDA新兴企业虽然起步较晚,但不落人后,正以创新技术加速产业重构,芯行纪便是其中的代表。作为一家聚焦智能化数字实现EDA解决方案的中国本土企业,芯行纪深度融合人工智能与传统设计流程,致力于打造更高效、更自主的芯片设计工具链。其推出的基于机器学习技术的数字实现EDA工具,不仅显著提升了设计收敛速度,还在功耗、面积和性能(PPA)优化方面展现出领先优势。

近日在ICCAD 2025上,芯行纪受邀参展,全面展示了AI驱动下的全自研数字实现EDA工具创新成果。与此同时,我们也有幸采访到了芯行纪销售副总裁陶然,他就“EDA的AI化发展路线”、“数字实现EDA工具平台建设”等热点话题分享了自己的洞见。


EDA的AI革命:机器学习PPA优化+LLM降门槛的双效驱动

EDA+AI正处于“从辅助走向核心”的关键拐点。国际巨头凭借数据、工具链和生态优势领跑,而以芯行纪为代表的国产EDA企业在设计链AI-EDA融合上正取得本土先发突破。若能持续投入数据积累、算法透明化与工程验证闭环,中国有望在AI驱动的新一代EDA浪潮中缩小差距,甚至在Chiplet、AI集群等新兴场景实现局部领先。

陶然表示,当前业界AI与EDA的融合主要体现在两个方向:其一是采用机器学习等技术实现自动调参与优化,以提升芯片的PPA指标,这一路径已被Cadence、Synopsys等头部企业广泛采用;其二是利用大语言模型(LLM)增强设计流程的交互性与自动化能力,例如通过自然语言指令自动生成脚本或辅助编写代码,从而显著降低集成电路设计的入门门槛。他指出,前者更侧重于设计质量的提升,后者则聚焦于人力效率的优化——使经验较少的工程师也能完成以往需资深人员才能胜任的任务,显著降低了芯片设计的门槛。

这两种应用虽已初具成效,但远未穷尽AI在EDA领域的潜力。如果能够构建一个专用于集成电路设计领域的高质量数据库,并在此基础上训练垂直领域的大语言模型。那这样的模型将使EDA工具具备更强的定制化能力,能够针对不同设计需求进行智能优化,这应是未来AI+EDA的重要发展方向。

在谈及AI对工程师岗位的影响时,陶然表达了相对乐观的态度。他结合自己逾20年从业经历——从数字后端工程师到国际EDA公司应用工程师、销售,再到投身国产EDA创业——指出,尽管每一代工艺节点的进步都带来工具能力的跃升,但设计复杂度与客户需求同步提高,使得工程师的工作并未变轻松,反而挑战更大。例如,从0.18微米到3纳米工艺,信号完整性(SI)、设计规则检查(DRC)等约束呈指数级增长,芯片规模也从百万级实例扩展至上万百万级。大芯片从DTCO(Design-Technology Co-Optimization)向STCO(System-Technology Co-Optimization)演进,强调芯片-封装-系统全链路协同,也进一步增加了设计验证的复杂程度。因此,整体的产业发展来看,虽然引入了AI,但对工程师的需求不减反增。

不过我们应该清晰——那些仅机械执行流程、缺乏深入理解的工程师最容易被AI替代。陶然在访谈中鼓励年轻从业者不必担忧被取代,而应主动拥抱AI工具,掌握在合适环节高效运用AI以提升PPA和工作效率的能力。在他看来,AI的目标不是取代人类,而是赋能工程师,让工作更高效、更有创造性。

关于AI对产业生态产生显著影响的时间表,陶然表示难以精确预测,但他判断:对于大型SoC中大量结构相对简单的模块,AI有望在较短时间内实现自动化设计,使单个工程师可同时处理数十个模块;而对于复杂的子系统乃至顶层集成等高难度任务,AI的深度介入仍需更长时间演进。


芯行纪用AI赋能EDA:布局布线与优化工具的国产突破

当前,芯片已经从百万级门电路扩展到数十亿甚至上万亿级晶体管(如大型SoC或AI芯片),设计从单一芯片向多核、异构集成演进。布线路径更长、更密集,导致信号传播延迟增大;互连层数增加,容易产生反射和噪声,SI问题指数级增长。同时,时序路径变多,优化难度加大。大型芯片的实例规模从百万级到百亿级,设计规则检查(DRC)和信号完整性约束同步爆炸式增长。

面临这些挑战时,陶然指出,当前主流数字后端工具——无论是芯行纪的产品还是国际大厂方案——均已具备相对成熟的SI与延迟分析及修复能力。具体而言,工具首先会通过计算识别潜在的SI问题:某些噪声可能引发时序延迟,另一些则可能导致功能失效(如毛刺)。针对已发现的问题,通常采用“SI修复”(SI Fix)策略,例如插入缓冲器(Buffer)、增强驱动能力或增加屏蔽(Shielding)等手段,以缓解SI引起的延迟。

更进一步,业界已逐步从“事后修复”转向“事前预防”。陶然介绍,目前主流做法是在时钟树综合(Clock Tree Synthesis, CTS)阶段即对时钟主干网采用非默认设计规则(Non-Default Rule, NDR),例如加宽线宽(Double Width)或增大线间距(Double Spacing),并辅以屏蔽措施,以降低噪声耦合风险。此外,在绕线阶段,对关键路径或时序敏感的网络(Critical Net),也会主动拉大周围走线间距或增加自身线宽,提前实施SI防护。

AI技术在数字实现的布局布线、时序优化以及DRC收敛等核心环节中发挥着显著作用,大幅提高了设计效率和输出品质。作为国内顶尖的数字实现EDA解决方案供应商,芯行纪已开发出多款基于AI的全自主数字实现EDA工具,例如国内首款的全自研数字布局布线工具AmazeSys、智能布局规划工具AmazeFP,以及机器学习优化工具AmazeME-FP和AmazeME-Place等。这些工具在RISC-V内核、复杂接口模块以及GPU硬件加速等实际项目中展现出出色性能。

举例而言,透过智能布局规划工具AmazeFP,可以将SI考量进一步前移至更早期的设计阶段,这种差异化的工具优势广受客户欢迎。陶然解释,尽管该工具主要用于Floorplan阶段,看似与时序和SI无直接关联,但其价值在于通过算法驱动的自动化布局,在物理实现初期就优化宏观结构。传统上,经验丰富的工程师会凭直觉摆放大型宏单元(Macro),以预留足够的布线资源并减少后续拥塞;而初级工程师往往难以准确预判布局对后期SI的影响。AmazeFP则通过智能算法,在布线资源紧张区域主动预留通道,并优化宏单元堆叠层数(例如将原本五六层的堆叠减少为三四层),从而显著降低局部布线拥塞。这种早期干预虽不直接处理SI,却能有效减少后续因布线密集导致的串扰和延迟问题,为SI收敛创造更有利的物理基础。


结语

在AI与EDA深度融合的时代浪潮中,芯行纪以其全自研的AI驱动数字实现EDA工具链,不仅有效应对了大规模芯片设计的复杂挑战,还为国产EDA产业注入了强劲动力。通过访谈中陶然的分享,我们看到AI并非颠覆者,而是工程师的强大盟友,它将进一步降低设计门槛、提升效率,并助力中国在Chiplet和AI集群等前沿领域实现弯道超车。展望未来,随着数据积累和算法迭代的持续推进,芯行纪等本土企业有望引领EDA向更智能、更自主的方向演进,推动芯片产业迈入新时代。

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