重大好消息不断！纯国产芯片、7nm设备迎来了重大突破！

众所周知，芯片是事关国家核心竞争力的重要产业，也是中国实现伟大复兴的一道坎。没有芯片话语权我国的科技行业就会受到很大的牵制，产业升级战略就无法推进。

这两年受美国打压华为的警醒，国内加强了对芯片领域的布局，并提出了到2025年实现芯片自主化70%的目标。

目前我国每年进口的芯片超过3000亿美元，如果国产芯片能满足70%的需求，那就能省2000亿美元左右的外汇，不仅有产业的战略意义，经济效益也非常可观。

因此国内各行各业对芯片领域难得的团结一致，共同推进国产芯片上下游产业链的布局。

在科研和人才培养方面，包括清华、北大、华中科大等一批顶尖大学纷纷成立了集成电路学院，一方面集中高校的科研力量和资源向芯片产业链攻关，另一方面也能够为国内芯片企业培养人才，做到产学研的良好结合。

作为手机数码的核心零件，芯片的重要性不言而喻，中国每年进口芯片总额甚至超过能源，可见对半导体芯片的依赖性有多高。可随着美国阻挠下，全球半导体行业陷入动荡，原本和华为密切合作的美光、台积电等巨头，目前无法为华为供应5G芯片，最终导致华为手机无法正常生产。华为芯片危机爆发之后，也是让国人认识到芯片重要性，各大科技公司踊跃加入芯片自研队伍，中芯国际正式“提速”，开始扩展产线，尽量满足国内内需。

随着全球半导体产业的发展越来越快，诸如台积电、三星这样的晶圆代工“大厂”，纷纷开启了在先进制程工艺上的竞赛。

三星抢先台积电一步，将GAA晶体管技术运用于3nm工艺，并对外展示了自己基于3nm代工工艺的存储芯片。此举，意味着全球芯片代工领域的发展，将会进一步提速。

由于《瓦森纳协定》以及美国的干涉，中国内地企业想要进口一台EUV光刻机过来却困难重重。中芯早在多年之前，就对ASML采购了一台EUV光刻机，但最终迟迟无法完成交付。

为了进一步提升国产芯片的占比，芯片制造设备成为了当下国内最急需突破的产品。

在芯片制造过程中，不仅仅需要高精度的光刻机，还需要刻蚀机、离子注入机、清洗机等设备的辅助，才能够完整的制造出高品质的芯片。

可以说，任何一个环节出现差错，就会导致生产出来的芯片无法进行使用。好的芯片制造设备，可以极大程度的提升芯片代工环节的良品率，但现如今的局面是，很多尖端的芯片制造设备，都被国外企业掌握在自己手中，想要采购过来十分困难。

咱们现在芯片的情况各位大家应该都清楚了，核心本身就是我们国家核心竞争力必不可少的项目之一。而没有芯片自主制造能力的我们着实在国际上受到了不少约束。而这两年因为国外打压的情况，更是让我们警醒了，所有的东西还是自己的好。目前，我国已经开始加强布局，争取在25年的时候实现芯片自给自足。

如果我们真的实现了芯片自给自足，那么在芯片进口方面我们就节省一大笔地指出，这笔支出就可以完全投入到另一方向的研究。所带来的结果可是完全不同的。而国内只要是高端科技企业，现在基本上都拧成了一股绳，憋着一股劲去研发高端技术产业链。难得的见到了一致和平发展。而在高端技术人才方面，清华，北大和华中科大聚集了一批国内顶尖人才开始了攻关高技术产业链的问题。也为以后给各行各业输出高技术人才打下了坚实的基础。而除了这些之外，国产芯片的利好消息是一波接着一波，先是龙芯发布了新一代的完全国产CPU，龙芯3A5000，这款CPU的性能已经可以和英特尔I5-6代的性能相媲美了。至此，我们的电脑芯片领域终于可以松一口气了，距离摆脱英特尔和AMD也不过只是时间问题了，未来就看龙芯的研发和对市场的把控了。

我国的，芯片半导体企业、科研机构与国内高校三方联手，倾力合作，立志要将生产制造芯片的所有有关的设备都研究开发出来，势必要让我国的芯片半导体企业摆脱国外的制约，打破国外企业的垄断。

正是在这种大环境下，那些被国外垄断的设备技术接连不断地传来破冰的喜讯。光刻机领域的突破，更是令国内的芯片半导体企业兴奋不已，要知道在光刻机领域，一直是由荷兰的阿斯麦公司所垄断，实质是由美国所掌控。其公司旗下的EUV光刻机是当今全球最为先进的光刻机。如今，我国的上海微电子将光刻机实现了国产化，虽然只是28nm光刻机，比起荷兰的7nmEUV光刻机有些差距，但也是极其良好的开端，以后自然会实现高端光刻机的国产化。

此外，还有一些设备迎来了重大突破，比如，中国电科的28nm全谱系离子注入机，南大光电的Krf高端光刻胶，这些和上海微电子的光刻机一般，都是在28nm的精度水准。不过此时仍是28nm及其以上芯片的主流市场，所以说这些中低端设备的突破是有着极大的意义和作用的。