[导读]瑞士Eulitha AG强调“用EUV（extreme ultraviolet）光刻技术制造”的纳米压印用模具，在“nano tech 2010（国际纳米科技综合展，2月17～19日）”上展出。在2mm×0.5mm的转印区内形成了最小17nm的网点、最小半间距（h
瑞士Eulitha AG强调“用EUV（extreme ultraviolet）光刻技术制造”的纳米压印用模具，在“nano tech 2010（国际纳米科技综合展，2月17～19日）”上展出。在2mm×0.5mm的转印区内形成了最小17nm的网点、最小半间距（hp）35nm的线宽和线间距。
该公司称采用了EUV光刻技术，但细问之下，方知采用的是以同步加速器（同步式圆形加速器）生成的软X射线的光刻技术。曝光使用的波长为13.5nm，波长确与EUV相同。使用了瑞士政府设置在苏黎世郊外的同步加速器设备。
这一技术比电子束光刻可降低加工成本，该公司以1600美元的价格提供配置有4处形成hp 35nm图案的2mm×0.5mm转印区的标准模具。据称，如果使用电子束光刻设备制造，其价格将为10倍以上。（记者：加藤 伸一）
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