绿光雷射二极体量产　MEMS微投影现锋芒

微机电系统(MEMS)微投影发展可望大幅跃进。尤其在直接放射绿光雷射二极体(Direct-emitting Green Laser Diode)于2012上半年量产后，将使MEMS雷射微投影光机，突破以往采用合成绿光技术的尺寸限制，进一步让厚度微缩至7毫米以下，并达到高解析度投射效果，从而提高行动装置制造商导入的意愿与速度。

先进微系统总经理洪昌黎提到，2012～2013年各种搭载微投影机的产品将大量出炉，目前正是卡位供应链的绝佳时机。
先进微系统总经理洪昌黎表示，2012年欧司朗(OSRAM)、EpiCrystal及康宁(Corning)的绿光雷射二极体正式量产后，势将带动更轻薄、解析度及能源效率更高，且开发成本更低的MEMS雷射微投影机问世。如此一来，MEMS雷射微投影机即能满足导入智慧型手机、平板电脑等产品的尺寸及效能要求，吸引行动装置制造商采用。

事实上，除MEMS雷射微投影外，数位光源处理(DLP)及矽基液晶(LCoS)技术阵营亦积极耕耘行动市场，竞争态势也愈趋白热化；然而，微投影机要嵌入行动装置，不仅须考量模组体积，投影解析度更是一大关键。

洪昌黎指出，目前行动装置皆相当注重显示萤幕画质，为能衔接使用者体验，对投影解析度的要求也随之攀高，支援SVGA(800×600)已成基本要求，甚至也有原始设备制造商(OEM)开出720p(1,280×720)规格；显见微投影机须兼顾小尺寸及高解析度，方能打入行动市场。

洪昌黎进一步分析，相较于DLP及LCoS技术在提高解析度时所面临的艰钜挑战，MEMS雷射微投影则在绿光雷射二极体补足技术缺口后，已能兼具高解析度与轻薄尺寸的效益，令业界为之振奋并对其在行动装置市场的后势发展极具信心。

事实上，突破绿光雷射二极体的技术瓶颈，已激励既有MEMS微投影机制造商加码投资，并吸引许多OEM及模组厂的瞩目，期能搭上行动装置导入微投影功能的热潮，从而刺激明年公司的营收成长。

洪昌黎透露，全球知名的MEMS雷射微投影机业者--Microvision，已规画在2012下半年采用红、蓝、绿光雷射二极体打造7毫米厚度以下的光机引擎，同时也将推升MEMS扫描镜的解析度臻至720p水准，期以兼具高解析度、轻薄尺寸的双重优势，争食行动装置内建微投影功能的商机大饼。

无独有偶，先进微系统也积极开发MEMS雷射扫描晶片，以及720p二维MEMS扫描镜；同时在绿光雷射二极体面市的鼓舞下，开始切入光机引擎研发领域，期发展出整套MEMS雷射微投影模组解决方案，助力模组厂快速切入微投影市场。洪昌黎强调，先进微系统明年将发表宽仅4.5毫米的MEMS雷射扫描晶片，并采用晶圆级封装(WLP)或CoB(Chip on Board)封装，压低总体晶片尺寸；同时，还会把晶片扫瞄频率提升至支援720p解析度，以满足MEMS微投影机模组开发商全方位设计需求。

至于光机引擎部分，配合MEMS雷射扫描晶片的推出，先进微系统也会开发厚度7～8毫米的光机引擎，并达到亮度15流明(lm)、耗电量仅1瓦(W)的水准。不过，洪昌黎强调，先进微系统仍以提供MEMS晶片为主，并不打算扩大量产光机引擎，而是以整套微投影机解决方案协助模组厂快速导入设计。