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传超威绘图芯片将转采Global Foundries 28奈米制程
时间：2010-04-22 07:41:00
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[导读]受到台积电40奈米制程良率偏低影响，加上不愿始终处于与NVIDIA争抢产能等因素，近期市场再度传出超威(AMD)已决定部分绘图芯片可能转单至已分家的Global Foundries，希望能进一步改善绘图芯片已长达近1年缺货问题，超
受到台积电40奈米制程良率偏低影响，加上不愿始终处于与NVIDIA争抢产能等因素，近期市场再度传出超威(AMD)已决定部分绘图芯片可能转单至已分家的Global Foundries，希望能进一步改善绘图芯片已长达近1年缺货问题，超威对此仅表示不予置评。
2009年5月，台积电40奈米制程良率问题严重打乱超威新旧品出货规画，不仅令超威始终难以出现逆转契机，也影响获利表现，尽管台积电再三保证良率已显著改善，但已使得超威开始进行风险分散评估，近期市场再度传出超威已计划调整绘图芯片代工计划，将携手已拆分的Global Foundries，在2011年上半的全新28奈米制程上进行合作。
据外电媒体报导，超威执行长Dirk Meyer日前也已向相关人士透露超威绘图芯片与Global Foundries的首次携手将在28奈米制程上实现，不过此讯息仍未获超威官方证实。
据了解，超威原计划在热销的5000系列家族后，预计2010年下半发布下一代绘图芯片，然在记取台积电40奈米良率始终不争气，以及对手NVIDIA GeForce 200系列等产能排挤等诸多问题后，加上台积电未来28奈米新制程恐来不及支应下，近期已改变代工计划。
超威绘图芯片产品线2010年内仍将持续使用台? n电40奈米制程，架构方面则融合新旧2代的特点，而最重要的是，2011年上半会增列Global Foundries合作伙伴，采用28奈米新制程以分散风险= 而由于台积电代工价格并不低，超威藉由部分转单效应可望进一步撙节成本。
据台积电先前规画，28奈米制程将会在2010年上路，低耗电(LP)制程年6月底试产，28奈米高效能(HP)制程则于9月试产，而低耗电高介电层／金属闸(28HPL)制程的试产时程则在12月进行，另外，台积电决定跳过22奈米直接进入20奈米。
而目前拥有2X奈米技术能力的厂商包括英特尔(Intel)、三星电子(Samsung Electronics)、台积电和Global Foundries，然在市场传出超威转单传言下，台积电与Global Foundries抢单固桩已可预见，未来20奈米技术上将陷激战。
2009年5月，台积电40奈米制程良率问题严重打乱超威新旧品出货规画，不仅令超威始终难以出现逆转契机，也影响获利表现，尽管台积电再三保证良率已显著改善，但已使得超威开始进行风险分散评估，近期市场再度传出超威已计划调整绘图芯片代工计划，将携手已拆分的Global Foundries，在2011年上半的全新28奈米制程上进行合作。
据外电媒体报导，超威执行长Dirk Meyer日前也已向相关人士透露超威绘图芯片与Global Foundries的首次携手将在28奈米制程上实现，不过此讯息仍未获超威官方证实。
据了解，超威原计划在热销的5000系列家族后，预计2010年下半发布下一代绘图芯片，然在记取台积电40奈米良率始终不争气，以及对手NVIDIA GeForce 200系列等产能排挤等诸多问题后，加上台积电未来28奈米新制程恐来不及支应下，近期已改变代工计划。
超威绘图芯片产品线2010年内仍将持续使用台? n电40奈米制程，架构方面则融合新旧2代的特点，而最重要的是，2011年上半会增列Global Foundries合作伙伴，采用28奈米新制程以分散风险= 而由于台积电代工价格并不低，超威藉由部分转单效应可望进一步撙节成本。
据台积电先前规画，28奈米制程将会在2010年上路，低耗电(LP)制程年6月底试产，28奈米高效能(HP)制程则于9月试产，而低耗电高介电层／金属闸(28HPL)制程的试产时程则在12月进行，另外，台积电决定跳过22奈米直接进入20奈米。
而目前拥有2X奈米技术能力的厂商包括英特尔(Intel)、三星电子(Samsung Electronics)、台积电和Global Foundries，然在市场传出超威转单传言下，台积电与Global Foundries抢单固桩已可预见，未来20奈米技术上将陷激战。
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