中微半导体：专注并提升电介质刻蚀设备技术
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全球半导体产业正在经历一个非常严重的衰退期，但中微公司把这波衰退期视为一个机遇，稳步地将我们的产品推向市场，并夯实客户基础。事实上，由于我们的成本低，财务状况良好，并且与已有的和潜在的投资者保持着良好的关系，因此，在其他竞争者收缩战线的时候，我们还在稳步扩张。
中国政府对IC产业的长期支持，使我们很受鼓舞。目前，中国政府正向半导体产业投入巨资，并出台了一系列政策支持在该行业的投资。未来10年，这种政策仍将体现在多个方面，既包括发展本土的制造业，也包括吸引类似于英特尔、海力士这样的企业来华投资。
这样持续的投资将被证明是明智的，因为中国将不仅仅是半导体器件的消费市场，同时也应该在IC产业链的关键环节中占有一席之地。中微公司就是这样一个例子。目前，中国消费了全球IC产量的28%，据预测，该比例还将持续上升。
在正确的时间，正确的地点，推出正确的产品，是中微公司取得成功的关键。自从中微公司在“SEMICONChina2008”展会上首次向公众展示自己的产品以来，我们已经取得了很多的成就。我们的产品引起了越来越多的关注——— 我们的PrimoDRIEEtch设备已经被数家一流的半导体芯片制造厂家所关注。在干法刻蚀领域，PrimoDRIEEtch设备具有的优异性能甚至超出了我们的预期。因此，已经有4家亚洲的芯片制造厂安装了该设备。据预测，电介质刻蚀设备的年销售额在20亿-30亿美元之间，因此我们将专注于该领域的技术。随着客户的技术节点向40纳米-30纳米推进，我们将在改善设备的一致性及可重复性的同时，努力提升设备性能。从客户反馈的意见来看，PrimoDRIEEtch设备具有很强的竞争力，并且成本很低，技术优势也很明显。我们已经拥有独特的知识产权，这使得我们能够在目前全球的IC制造厂和未来中国的IC制造厂赢得先机。
从财务角度来讲，我们渡过了非常成功的一年。我们完成了5800万美元的C轮融资，同时新增了几个有实力的投资者。当然，我们也非常关注全球经济的走势，我们努力节省现金，并在现有的商业模式下控制企业的规模。2009年，我们已经开了个好头。我们希望全球经济能在今年有所回升，我们坚信自己拥有足够的资源致力于持续创新，使我们的产品能满足芯片制造厂商提升其制造工艺的需求。
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