林德现场制氟方案将帮助东京电子降低环境影响

摘要：  ：“我们很高兴有机会与东京电子合作，扩大并深化氟的半导体应用范围，同时帮助客户通过减少环境影响、提高生产力并降低成本。多年来，东京电子在全球一系列生产基地的热LPCVD1炉都在使用林德现场制成的氟，以降低成本，提高安全系数和过程控制效果。”

关键字：  林德，  东京电子，  氟发生器，  平板显示器，  LPCVD，  Generation-F®

作为林德实现更可持续的电子制造承诺的一部分，林德集团旗下的林德电子今天宣布，将在东京电子（TEL）的日本韮崎市研发中心制造厂安装一套现场氟发生器，以支持东京电子的制造流程和业务运营。

林德集团是全球领先的气体和工程企业。东京电子株式会社是全球领先的半导体和平板显示器（FPD）生产设备供应商。通过在美国、欧美和亚洲的15个国家约90个网点组成的全球网络，东京电子的所有半导体和平板显示器生产设备产品系列在各自的市场上都保持着很高的市场份额。

林德电子氟业务部门负责人Carl Jackson表示：“我们很高兴有机会与东京电子合作，扩大并深化氟的半导体应用范围，同时帮助客户通过减少环境影响、提高生产力并降低成本。多年来，东京电子在全球一系列生产基地的热LPCVD1炉都在使用林德现场制成的氟，以降低成本，提高安全系数和过程控制效果。”

近来，林德一直为LPCVD应用的大型半导体生产基地安装现场制氟设备并接获订单。林德发现有越来越多的客户由于担心三氟化氮(NF3)很有可能造成全球变暖，加之可能有潜在立法限制NF3的使用而开始采用现场制氟。相较于NF3，现场制氟是一种更具生产力、更节能的替代选择，它更便于清洁用于制造TFT-LCD和PV的PECVD2室。2010年，林德客户通过使用现场制氟，减少逾25万吨二氧化碳排放量。

林德Generation-F®现场氟发生器已通过大量的第三方安全评估。目前林德在世界各地提供和运行的Generation-F®系统数量超过30套，满足了半导体、显示和光伏行业的腔室清洁需求。

林德为世界各地的电子行业客户提供各种高纯度气体选择、相关产品、服务及技术解决方案，以便于研发直至大规模生产。

1. LPCVD = 低压化学气相沉积
2. PECVD = 等离子体增强化学气相沉积