[导读]【导读】支撑材料:成果频出 项目加码
在我国半导体产业快速增长的带动下,近几年来我国半导体支撑材料产业有了相当的发展,取得了明显的进步。在IC CHINA 2006期间,国内半导体支撑材料主要企业集中展示了其最
【导读】支撑材料:成果频出 项目加码
在我国半导体产业快速增长的带动下,近几年来我国半导体支撑材料产业有了相当的发展,取得了明显的进步。在IC CHINA 2006期间,国内半导体支撑材料主要企业集中展示了其最新成果,并发布了其最新动态和策略。
有研硅股:建成12英寸硅单晶抛光片中试线
进入21世纪以来,国际集成电路制造技术进入了新一轮的快速发展时期,0.13-0.10微米直径12英寸集成电路技术开始进入市场,对直径12英寸硅片的需求也由技术研发转变为现实的市场需求。为适应国际半导体产业的发展,有研硅股在科技部和北京市政府的共同支持下,攻克了大直径硅单晶生长、大直径硅片加工、分析检测等一系列技术难关,开发成功全套生产工艺,申请专利22项,并建成了我国第一条月产1万片、直径12英寸硅单晶抛光片中试生产线。
公司技术人员在“863”计划战略性、前沿性、前瞻性定位要求下,在不到5年的时间里,走了从大直径单晶生长到抛光片成品的近30道关键工序的技术方案设计、设备选型、工艺研究的全过程;跨越了从关键技术研究向连续化生产的中试生产线导入的转变;经历了从研究开发样品到批量生产产品的客户检测和供货评估的艰难历程,实现了我国直径12英寸硅单晶抛光片生产零的突破。
科华微电子材料:即将建设百吨级正胶生产线
北京科华微电子材料有限公司是2004年8月注册成立的中美合资企业,主要从事超大规模集成电路、分立器件和液晶显示器件制作用光刻胶及配套试剂的生产与研发,是目前国内同时集光刻胶研发与生产、销售于一身的专业性高新技术企业。公司拥有国内外知名的具有多年光刻胶研发经验的专家队伍、高素质的管理团队和具有国际先进水平的分析和应用测试设备。公司拥有已建成投产的北京燕山生产基地、位于美国波士顿的光刻胶研发实验室及正在建设中的北京天竺光刻胶及配套试剂的生产基地。公司即将在北京天竺出口加工区建设百吨级正胶生产线。
华谊微电子材料:建成15000吨级电子化学品项目
上海华谊集团公司在“十五”期间成功承担了国家“863”超大规模集成电路配套材料重大专项中超纯试剂工艺研究开发任务。在产业化建设进程中与台湾联仕电子化学材料股份有限公司以各50%股份合资成立了上海华谊微电子材料有限公司(华谊微电子)。公司集化学品提纯、高纯高净分析检测、包装、售后服务为一体。
经过一年多的建设,华谊微电子年产15000吨的微电子化学品项目已建成,并于9月8日举行开业典礼。项目包括超大规模集成电路制造过程中需要的硫酸、过氧化氢、氨水、氟化铵、硝酸、盐酸、醋酸、BOE等各主要品种,产品质量达到国际SEMI C12标准,可以满足12英寸芯片的制造工艺要求。项目的建设将改变我国国内超大规模集成电路制造业超纯高净试剂化学品依靠进口的局面。“十一五”期间,华谊微电子将在已建成的万吨级微电子化学品装置基础上,继续提高产品质量以满足半导体制造业的需要,以更好地为客户提供高品质服务。
晶瑞化学:100ppt级双氧水项目将投产
苏州晶瑞化学有限公司是一家集开发、生产、营销微电子用高纯化学品的高新企业。产品包括氢氟酸、过氧化氢、异丙醇、氨水、硫酸、硝酸、盐酸、氟化铵、无水乙醇、丙酮、混酸蚀刻液等。产品广泛应用于超大规模集成电路和TFT-LCD面板制造过程中的蚀刻与清洗。已投入使用的一期工程,建筑面积3200平方米,万级(局部百级)净化厂房400平方米。年产5000吨各类超高纯化学试剂。2006年2月公司与比利时Solvay公司合资建立了苏州苏瑞电子材料有限公司(Interox-SEM Co.,Ltd),专注于开发、生产、营销超高纯双氧水,公司设计年产4000吨100ppt级双氧水,产品规格可以满足8-12英寸IC芯片生产工艺要求,预计将在2006年10月份全面投产。
光明化工研究设计院:组建电子气体工程研究中心
随着我国IC产业的高速发展,IC产业关键支撑材料高纯电子气体的需求呈现大幅增长态势。电子气体国产化已成为降低IC制造成本、增强国际竞争力、实现我国IC产业健康发展的必然。光明化工研究设计院前身为化工部光明化工研究所,是以特种气体(包括电子气体)为主导方向的科研机构。经过四十多年的发展,光明院已形成以特种气体、微电子、光电子关键支撑材料——电子化学品为主导的多种专业并存的,集科研开发、工程设计、生产经营、技术服务、质量检验为一体的综合性科研机构。化学工业(全国)气体质量监督检验中心、全国特种气体信息中心均设在光明院。
光明院已确定组建电子气体工程研究中心,工程中心将以光明院为技术依托,以“科技成果产业化、运行机制企业化、发展方向市场化”为核心,实现机制创新与技术创新相结合,建成高水平的电子气体研究开发、技术创新与产业化基地。
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20世纪90年代以来,微电子技术以惊人的速度发展,其工艺水平达到了深亚微米级,此阶段主要出现了以高级语言描述、系统仿真和综合技术为特征的第三代EDA技术。
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