[导读]半导体测试设备领导者爱德万测试为因应1X奈米制程光罩缺陷检测需求,推出全新多功能整合型量测扫描式电子显微镜E3640,预计于2014年6月正式上市。
E3640为爱德万测试广受业界采用的E3600系列全新电子显微镜产品,
半导体测试设备领导者爱德万测试为因应1X奈米制程光罩缺陷检测需求,推出全新多功能整合型量测扫描式电子显微镜E3640,预计于2014年6月正式上市。
E3640为爱德万测试广受业界采用的E3600系列全新电子显微镜产品,其精准度和产出速度已获得大幅精进,并拥有业界最佳图样缺陷检测能力,可支援业界即将面临的1X奈米制程。除应用于标准半导体微影光罩检测外,E3640亦能针对EUV光罩、NIL母模等下一代微影基板提供更高量测效能。
爱德万测试全新多功能整合型量测扫描式电子显微镜系统E3640。
随着行动装置终端市场需求日渐高涨,半导体产业即将在短期内进入1X奈米制程量产阶段,此重大转变将带动业界对于超小尺寸元件高稳定性、高精准度图样缺陷检测能力的需求。E3640的推出正是回应此需求,这套系统可提供领先业界的精密量测能力,且功能更先进更强大,有助于提升光罩研发和产出效率。
E3640采用电子光学镜头,导入更高阶讯号处理硬体,突破上一代系统瓶颈,大幅提升量测复制效能,并支援1X奈米节点硬式罩幕开发与量产评估。除此之外,在软体方面,这套新系统也能与其他E3600系列产品相容,让使用者有效运用现有软体资产。
E3640可与微影模拟工具连结,让开发人员进行光罩图样模拟设计,并透过连结提供重要图样资讯回馈。E3640并可连结EDA工具取得待测图样座标与表貌结构(Topography),提高「热点」(亦即光罩上难以修正的复杂或极小图样)的量测精准度,使开发效率获得显著提升。此外,E3640承袭爱德万测试E3630系统的专利运算技术和多重侦测器配置设定,可对图样宽度、高度与侧边壁面角度进行即时3D观察量测与识别量测。
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