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[导读]开关电源的效率直接关系到能源利用率、散热设计和产品可靠性,而MOS管作为开关电源的核心器件,其损耗占电源总损耗的40%-60%。深入理解MOS管的损耗机理,并针对性地进行优化,是提高开关电源效率的关键。MOS管的损耗主要由导通损耗、开关损耗、驱动损耗等八大类构成,每类损耗都有其独特的产生机理和优化方向。

开关电源的效率直接关系到能源利用率、散热设计和产品可靠性,而MOS管作为开关电源的核心器件,其损耗占电源总损耗的40%-60%。深入理解MOS管的损耗机理,并针对性地进行优化,是提高开关电源效率的关键。MOS管的损耗主要由导通损耗、开关损耗、驱动损耗等八大类构成,每类损耗都有其独特的产生机理和优化方向。本文将逐一解析这八大损耗的本质特征,结合实际设计案例提供优化方案,帮助你打造高效可靠的开关电源产品。

一、导通损耗:持续的静态发热源

损耗机理

导通损耗是MOS管在导通状态下产生的静态损耗,其本质是MOS管的导通电阻(Rds(on))在流过电流时产生的功率损耗。计算公式为:

P_conduction = I² × Rds(on) × D

其中,I是MOS管的导通电流,Rds(on)是MOS管的导通电阻,D是开关占空比。

导通损耗与导通电流的平方成正比,与导通电阻成正比,因此在大电流开关电源中,导通损耗是主要的损耗来源。例如,一个输出电流为10A的DC-DC转换器,若MOS管的Rds(on)为20mΩ,占空比为0.5,则导通损耗为10²×0.02×0.5=1W,占总损耗的50%以上。

影响因素

Rds(on)是影响导通损耗的核心参数,它受到以下因素的影响:

电压等级:耐压越高的MOS管,Rds(on)越大。例如,耐压100V的MOS管,Rds(on)通常是耐压50V的同类产品的2-3倍。

温度:MOS管的Rds(on)具有正温度系数,温度每升高10℃,Rds(on)会增加5%-10%。当MOS管结温达到100℃时,Rds(on)可能会增加一倍以上。

驱动电压:驱动电压不足会导致MOS管无法完全导通,Rds(on)会显著增加。例如,当驱动电压从12V降至5V时,某些MOS管的Rds(on)可能会增加30%以上。

优化策略

选择低Rds(on)的MOS管:在满足耐压要求的前提下,尽量选择Rds(on)较小的MOS管。但需要注意的是,Rds(on)越小,MOS管的寄生电容通常越大,开关损耗可能会增加,需要进行权衡。

并联MOS管:对于大电流应用,可以并联多个MOS管,将导通电阻降低到1/N(N为并联的MOS管数量)。但并联时需要注意均流问题,尽量选择特性一致的MOS管。

提高驱动电压:确保MOS管的驱动电压足够高,一般建议驱动电压在10-15V之间,以确保MOS管完全导通,降低Rds(on)。

优化散热设计:通过良好的散热设计降低MOS管的结温,从而降低Rds(on)。例如,使用面积足够大的散热片,优化PCB的铜箔布局,提高散热效率。

二、开关损耗:动态切换的能量消耗

损耗机理

开关损耗是MOS管在导通和关断过程中产生的动态损耗,包括开通损耗和关断损耗两部分。当MOS管从关断状态切换到导通状态时,漏源电压(Vds)从高压降至接近0,同时漏极电流(Id)从0升至最大,在这个过程中,Vds和Id的乘积会产生开通损耗;当MOS管从导通状态切换到关断状态时,Vds和Id的乘积同样会产生关断损耗。

开关损耗的计算公式为:

P_switch = 0.5 × Vds × Id × (t_on + t_off) × f_switch

其中,Vds是MOS管关断时的漏源电压,Id是MOS管导通时的漏极电流,t_on是开通时间,t_off是关断时间,f_switch是开关频率。

开关损耗与开关频率成正比,因此在高频开关电源中,开关损耗是主要的损耗来源。例如,一个开关频率为1MHz的DC-DC转换器,若Vds为40V,Id为5A,t_on+t_off为10ns,则开关损耗为0.5×40×5×10×10^-9×1×10^6=1W,占总损耗的50%以上。

影响因素

开关损耗主要受到以下因素的影响:

开关频率:开关频率越高,开关损耗越大。因此,在设计高频开关电源时,必须特别注意开关损耗的优化。

MOS管的开关速度:MOS管的开通时间(t_on)和关断时间(t_off)越短,开关损耗越小。开关速度由MOS管的栅极电荷(Qg)和驱动能力决定。

寄生参数:MOS管的寄生电容(Cgd、Cgs、Cds)和寄生电感(Lg、Ls、Ld)会影响开关速度,进而影响开关损耗。

负载电流:负载电流越大,开关损耗越大,因为开关过程中的Id越大。

优化策略

选择低Qg的MOS管:栅极电荷Qg越小,MOS管的开关速度越快,开关损耗越小。但需要注意的是,Qg越小的MOS管,Rds(on)通常越大,需要在导通损耗和开关损耗之间进行权衡。

优化驱动电路:提高驱动电路的驱动能力,降低驱动电阻,缩短MOS管的开通和关断时间。例如,使用专用的MOS管驱动芯片,提供足够大的驱动电流。

软开关技术:采用软开关技术,如零电压开关(ZVS)或零电流开关(ZCS),使MOS管在Vds为0时开通或在Id为0时关断,从而消除开关损耗。软开关技术在高频开关电源中应用广泛,可显著提高电源效率。

优化PCB布局:减少MOS管的寄生电感,特别是栅极和源极之间的寄生电感,以提高开关速度。例如,缩短驱动信号线的长度,增加源极的接地铜箔面积。

三、驱动损耗:栅极电荷的充放电能量

损耗机理

驱动损耗是MOS管在开关过程中,驱动电路为MOS管的栅极电容充放电产生的损耗。MOS管的栅极可以看作一个电容,当MOS管开关时,驱动电路需要对这个电容进行充放电,消耗的能量为:

E_gate = Qg × Vgs

其中,Qg是MOS管的栅极总电荷,Vgs是栅极驱动电压。

驱动损耗的计算公式为:

P_gate = E_gate × f_switch = Qg × Vgs × f_switch

驱动损耗与开关频率成正比,与栅极总电荷Qg成正比。例如,一个Qg为50nC、Vgs为12V、开关频率为1MHz的MOS管,驱动损耗为50×10^-9×12×1×10^6=0.6W,占总损耗的30%左右。

影响因素

驱动损耗主要受到以下因素的影响:

开关频率:开关频率越高,驱动损耗越大。

栅极总电荷Qg:Qg越大,驱动损耗越大。

驱动电压Vgs:驱动电压越高,驱动损耗越大。

驱动电路效率:驱动电路本身的效率也会影响驱动损耗,效率越低,驱动损耗越大。

优化策略

选择低Qg的MOS管:Qg越小,驱动损耗越小。但需要注意的是,Qg越小的MOS管,通常开关速度越快,开关损耗越小,但Rds(on)可能会越大,需要进行综合权衡。

优化驱动电路效率:采用高效的驱动电路,如使用推挽式驱动电路代替单管驱动电路,提高驱动电路的电源效率。

降低驱动电压:在确保MOS管完全导通的前提下,适当降低驱动电压可以减少驱动损耗。例如,将驱动电压从15V降至12V,驱动损耗可减少20%。

使用有源钳位技术:对于一些特殊的拓扑结构,如正激变换器,可以使用有源钳位技术回收栅极驱动能量,降低驱动损耗。

四、米勒损耗:栅漏电容的反向充电

损耗机理

米勒损耗是开关损耗的一种特殊形式,由MOS管的栅漏电容(Cgd,也称为米勒电容)引起。当MOS管开通时,漏极电压(Vds)从高压迅速下降,Cgd两端的电压变化会产生一个反向电流,这个电流会对栅极驱动电路产生影响,延长MOS管的开通时间,增加开关损耗;当MOS管关断时,Vds从接近0迅速上升,Cgd两端的电压变化同样会产生一个反向电流,延长关断时间,增加开关损耗。

米勒电容的充放电电流会消耗驱动电路的能量,同时也会导致MOS管的开关速度变慢,增加开关损耗。在高压开关电源中,米勒损耗占开关损耗的比例可能高达30%-50%。

影响因素

米勒损耗主要受到以下因素的影响:

米勒电容Cgd:Cgd越大,米勒损耗越大。

漏极电压Vds:Vds越高,米勒损耗越大。

开关频率:开关频率越高,米勒损耗越大。

驱动能力:驱动电路的驱动能力越弱,米勒损耗对开关速度的影响越大。

优化策略

选择低Cgd的MOS管:Cgd越小,米勒损耗越小。但需要注意的是,Cgd越小的MOS管,通常反向恢复时间越长,可能会增加续流二极管的损耗。

提高驱动能力:增加驱动电路的驱动电流,提供足够的电流来克服米勒电容的影响,缩短开关时间。例如,使用驱动能力更强的驱动芯片,降低驱动电阻。

米勒钳位技术:在MOS管的栅极和源极之间并联一个钳位二极管或稳压管,限制栅极电压的变化,减少米勒电容的影响。

优化PCB布局:减少MOS管漏极和栅极之间的寄生电容,避免米勒效应的加剧。例如,增加漏极和栅极之间的距离,使用屏蔽层隔离。

五、体二极管损耗:续流过程的能量消耗

损耗机理

MOS管内部集成了一个寄生的体二极管,当MOS管关断时,若负载电流需要续流,体二极管会导通,产生续流损耗。体二极管的正向压降(Vf)通常比MOS管导通时的Vds高,因此体二极管导通时的损耗为:

P_body = I × Vf × (1 - D)

其中,I是续流电流,Vf是体二极管的正向压降,(1-D)是MOS管关断的时间比例。

在一些拓扑结构中,如同步整流转换器,如果同步整流MOS管的导通时间控制不当,体二极管可能会在导通期间导通,产生额外的损耗。例如,在一个输出电流为5A的同步整流转换器中,若体二极管的Vf为0.8V,(1-D)为0.5,则体二极管损耗为5×0.8×0.5=2W,占总损耗的40%以上。

影响因素

体二极管损耗主要受到以下因素的影响:

续流电流:续流电流越大,损耗越大。

体二极管的正向压降Vf:Vf越高,损耗越大。

关断时间比例(1-D):关断时间越长,损耗越大。

优化策略

选择体二极管特性好的MOS管:选择正向压降Vf小、反向恢复时间短的MOS管。但需要注意的是,体二极管特性好的MOS管,通常成本较高。

优化同步整流控制:在同步整流转换器中,精确控制同步整流MOS管的导通和关断时间,避免体二极管导通。例如,使用电流检测或电压检测的方法,在体二极管导通前提前开通同步整流MOS管。

使用外部续流二极管:在某些情况下,可以并联一个外部的续流二极管,替代体二极管进行续流。外部续流二极管可以选择正向压降更小、反向恢复时间更短的二极管,从而降低续流损耗。

六、寄生电感损耗:高频开关的隐性损耗

损耗机理

开关电源的PCB布线和MOS管的引脚会产生寄生电感,这些寄生电感在高频开关过程中会产生电压尖峰和损耗。当MOS管开通或关断时,寄生电感中的电流变化会产生感应电动势,这个电动势会叠加在MOS管的Vds或Vgs上,导致电压尖峰,增加MOS管的应力,同时也会产生额外的损耗。

寄生电感的损耗主要表现为电压尖峰导致的额外开关损耗,以及EMI噪声带来的间接损耗。在高频开关电源中,寄生电感的影响尤为显著,可能会导致MOS管的Vds尖峰超过其耐压值,损坏MOS管。

影响因素

寄生电感损耗主要受到以下因素的影响:

PCB布线:PCB的布线方式对寄生电感的大小有决定性影响。较长的布线、较小的线宽都会增加寄生电感。

MOS管的引脚长度:MOS管的引脚越长,寄生电感越大。

开关频率:开关频率越高,寄生电感产生的电压尖峰越大,损耗也越大。

优化策略

优化PCB布局:采用短、宽的布线,减少寄生电感。例如,将MOS管的源极直接连接到地平面,减少源极的寄生电感;将驱动电路的输出直接连接到MOS管的栅极,减少栅极的寄生电感。

使用多引脚并联:对于大电流应用,可以使用多个引脚并联的MOS管,降低单个引脚的寄生电感。

添加缓冲电路:在MOS管的漏极和源极之间添加RC缓冲电路或RCD缓冲电路,吸收寄生电感产生的电压尖峰,降低MOS管的应力和损耗。

使用平面变压器:在需要变压器的拓扑结构中,使用平面变压器代替传统的绕线变压器,减少变压器的寄生电感和漏感。

七、反向恢复损耗:续流二极管的反向恢复

损耗机理

在非同步整流的开关电源中,续流二极管在关断时会产生反向恢复损耗。当续流二极管从导通状态切换到关断状态时,存储在二极管中的电荷需要释放,这个过程会产生一个反向恢复电流,这个电流会与MOS管的漏极电压叠加,增加MOS管的开关损耗。

反向恢复损耗的大小与续流二极管的反向恢复时间(trr)和反向恢复电荷(Qrr)有关。trr越长,Qrr越大,反向恢复损耗越大。在高频开关电源中,反向恢复损耗占总损耗的比例可能高达20%-30%。

影响因素

反向恢复损耗主要受到以下因素的影响:

续流二极管的反向恢复时间trr:trr越长,损耗越大。

续流二极管的反向恢复电荷Qrr:Qrr越大,损耗越大。

开关频率:开关频率越高,损耗越大。

负载电流:负载电流越大,损耗越大。

优化策略

选择快速恢复二极管或肖特基二极管:快速恢复二极管的trr和Qrr较小,反向恢复损耗较小;肖特基二极管没有反向恢复过程,几乎没有反向恢复损耗,但肖特基二极管的耐压较低,通常不超过100V。

使用同步整流MOS管:在可能的情况下,使用同步整流MOS管代替续流二极管,MOS管没有反向恢复过程,可以完全消除反向恢复损耗。

优化驱动电路:调整MOS管的驱动信号,使续流二极管在反向恢复过程结束后再开通MOS管,减少反向恢复电流与MOS管漏极电压的叠加时间。

添加软恢复电路:在续流二极管两端添加RC电路,降低反向恢复电流的峰值,减少反向恢复损耗。

八、静态损耗:栅极漏电和漏源漏电

损耗机理

静态损耗是MOS管在关断状态下产生的损耗,主要包括栅极漏电流和漏源漏电流两部分。栅极漏电流(Igss)是MOS管栅极和源极之间的漏电流,通常非常小,在nA级;漏源漏电流(Idss)是MOS管漏极和源极之间的漏电流,同样非常小,在μA级。

静态损耗的计算公式为:

P_leakage = Vds × Idss + Vgs × Igss

由于Igss和Idss都非常小,静态损耗在大多数情况下可以忽略不计,通常占总损耗的比例不超过1%。但在一些特殊情况下,如高压、高温环境中,Idss可能会显著增加,静态损耗可能会变得不可忽视。

影响因素

静态损耗主要受到以下因素的影响:

温度:温度越高,Idss和Igss越大。当温度从25℃升高到100℃时,Idss可能会增加10倍以上。

电压等级:耐压越高的MOS管,Idss通常越大。

MOS管的工艺:不同工艺的MOS管,Idss和Igss的大小可能会有很大差异。

优化策略

选择低漏电流的MOS管:在对静态损耗要求较高的应用中,选择Idss和Igss较小的MOS管。

降低工作温度:通过良好的散热设计降低MOS管的结温,从而降低漏电流。

优化驱动电路:在MOS管关断时,确保栅极电压为0或负电压,避免栅极漏电流的增加。

总结:系统思维下的损耗优化

开关电源MOS管的八大损耗并非独立存在,而是相互影响、相互制约的。例如,选择低Rds(on)的MOS管可能会导致Qg和Cgd增大,增加开关损耗和驱动损耗;提高开关频率可以减小电源的体积和重量,但会增加开关损耗和驱动损耗。因此,在进行损耗优化时,需要采用系统思维,综合考虑各种损耗之间的平衡,找到最佳的设计点。

一个高效的开关电源设计需要在MOS管选型、驱动电路设计、PCB布局、散热设计等多个方面进行优化:

MOS管选型:根据应用场景的电压、电流、开关频率等要求,选择Rds(on)、Qg、Cgd等参数平衡的MOS管。

驱动电路设计:采用高效、驱动能力强的驱动电路,确保MOS管快速、完全地开关。

PCB布局:优化PCB布局,减少寄生电感和寄生电容,降低EMI噪声和损耗。

散热设计:采用良好的散热设计,降低MOS管的结温,减少温度对各种损耗的影响。

拓扑结构选择:选择适合应用场景的拓扑结构,如对于大电流应用,采用同步整流拓扑结构;对于高压应用,采用谐振拓扑结构实现软开关。

通过对MOS管八大损耗的深入理解和针对性优化,可以显著提高开关电源的效率,降低散热要求,提高产品的可靠性,打造出高性能的开关电源产品。

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