飞索转型求生存锁定嵌入式存储器

时间：2010-09-29 11:35:26

关键字：嵌入式存储器 NORFLASH 晶圆厂制程技术

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[导读]NORFlash产业昔日霸主飞索(Spansion)在脱离破产保护后，积极进行大反扑，除了快速处理掉2座晶圆厂卖给德州仪器(TI)外，在产品在线也做大幅度的调整，除巩固车用NORFlash产品线之外，也投入相当大资源在内嵌式NORFlas

NORFlash产业昔日霸主飞索(Spansion)在脱离破产保护后，积极进行大反扑，除了快速处理掉2座晶圆厂卖给德州仪器(TI)外，在产品在线也做大幅度的调整，除巩固车用NORFlash产品线之外，也投入相当大资源在内嵌式NORFlash领域，这部分一直是飞索最擅长同时也是成长性最高的一块市场，包括工业领域、个人计算机(PC)等市场，未来内嵌式NORFlash产品的成长性相当强劲。

飞索表示，除了已耕耘20年的车用NORFlash产品线外，飞索也会把大量资源放在内嵌式产品上，这会是未来成长性最高的产品线，且随著营运弹性化的策略彻底落实，飞索在回应市场变化和客户需求上也未更快速。

全球内嵌式NORFlash领域的竞争状况也相当激烈，过去飞索在此市场产品线相当齐全，从16Mb~512Mb以及1Gb和2Gb等高容量产品线都很齐全，其它竞争对手还包括三星电子(SamsungElectronics)、恒忆(Numonyx)、超捷(SST)旺宏、华邦、Atmel等。

飞索过去营运包袱相当重，主要来自于自有晶圆厂的负担，2010年飞索将日本1座12寸晶圆厂和1座8寸晶圆厂卖给德仪后，主要的生产重心放在位于美国德州奥斯汀的12寸厂Fab25。

企业营销总监JohnNation强调，未来飞索的生产策略上，仍是会以自有的Fab25厂房为主，其它委外代工的对象还有德州仪器、中芯半导体等；在制程技术上，在Fab25厂房方面，主要制程技术为110纳米、90纳米和65纳米，未来仍可持续扩产；与德仪合作的制程技术则以110纳米为主；与中芯的代工合作则是以65纳米制程为主。

再者，飞索也与尔必达(Elpida)合作NANDFlash产品，将以尔必达在日本广岛的12寸晶圆厂做为生产基地，初期从43纳米切入，未来再持续导入32纳米，双方也宣布采用飞索MirrorBitCharge-Trapping技术的4Gb容量SLC(Single-LevelCell)芯片正式问世，计划2010年第4季试产，在2011年第1季可步入量产。

整体而言，飞索在重整之后，不论是产品线或是生产制造策略上，都做了相当大的转变，2010年第2季也持续交出获利成绩单，加上开始在各个产品在线与大厂进行策略联盟，飞索积极寻求转型的过程和成果，市场相当关注。